共匪华为所谓Mate60用多重曝光生成的7奈米芯片不过是2020年级别手机
整窝沸腾日夜狂呼不息成本用台积电废弃的多重曝光技术生出低良率芯片，只为挣一口气，可笑发烫，可悲群氓，缺少人类成熟理智。
10 个评论
中芯使用28纳米的ASML DUV通过多次曝光技术生产的，据说良率只有15%，属于不惜一切代价搞出来的。
中共不可能永远、无条件、无限制的给整个大陆集成电路产业输血，个人感觉这就是华为和中芯甚至可能是中共在商业芯片领域的最终绝唱了。
中共不可能永远、无条件、无限制的给整个大陆集成电路产业输血，个人感觉这就是华为和中芯甚至可能是中共在商业芯片领域的最终绝唱了。
